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ウエハ分析

ルネサス セミコンダクタ マニュファクチュアリング株式会社(旧ルネサス那珂セミコンダクタ 分析センタ) 化学分析は、ウェハの高感度分析が得意です。

2.ウェハ分析

2.1 袋抽出試験法 2.2 TD-GC/MS法 2.3 VPD-ICPMS法、VPD-TXRF法

2.1 袋抽出試験法

概要

ウェハ全面(表面+裏面+ベベル)に付着した不純物や成膜した膜中に含まれる不純物の定量分析が可能です。
イオン性無期不純物、金属不純物の分析に対応しております。

方法

洗浄した清浄な袋にウェハと、抽出・溶解する液を入れ密封処理をします。
その処理袋を加熱して不純物を液中に抽出・溶解します。
抽出液中のイオン性無機不純物をイオンクロマトグラフで、金属不純物をICP-MSで測定します。

ウェハ袋抽出試験法

 【分析感度】※

無機イオン
不純物
Cl- 0.1~1
NO2- 0.2~2
NO3- 0.5~5
SO42- 0.5~5
PO43- 0.5~5
F- 1~10
ギ酸 1~10
NH4+ 1~10

 ng/ウェハ

金属不純物
Fe 0.5
Cu 0.3
Ni 0.3
Cr 0.5
Zn 1
Na 5
K 5
Ca 5
Al 1

E9atoms/cm2

 ※φ300ウェハ評価の場合

【特徴】

  • 処理袋と抽出・溶解液を選択することにより、表面・膜中など幅広い成分分析ができます。
  • 様々なサイズのウェハに対応可能です。
  • 樹脂ペレットや手袋などウェハ以外の様々な材料分析にも適用できます。

2.2 TD-GC/MS法

概要

ウェハ片面(表面または裏面)上の有機不純物を評価します。

方法

ウェハを昇温脱ガス装置(TDS)で加熱し、ウェハからのアウトガスを吸着剤(主にTENAX)入り吸着管で捕集します。その吸着管をGC/MSで測定します。

TD-GC/MS法

 【分析感度】※

成分 ng/cm2
沸点別 - 0.01~0.5
シロキサン類※1 D3・D4・D5・D6 0.005~0.02
フタル酸エステル類※2 DEP・DBP・DOP 0.005~0.01
リン酸エステル類※3 TCEP・TPP・TCP 0.005~0.01
酸化防止剤※4 BHT 0.005~0.01

 ※ φ300ウェハ評価の場合

※1 シロキサン類
D3:ヘキサメチルシクロトリシロキサン
D4:オクタメチルシクロテトラシロキサン
D5:デカメチルシクロペンタシロキサン
D6:ドデカメチルシクロヘキサシロキサン

※2 フタル酸エステル類
DEP:フタル酸ジエチル
DBP:フタル酸ジブチル
DOP:フタル酸ジ-(2-エチルヘキシル)

※3 リン酸エステル類
TCEP:リン酸トリス(2-クロロエチル)
TPP:リン酸トリフェニル
TCP:リン酸トリクレジル

※4 酸化防止剤
BHT:ブチルヒドロキシトルエン

【特徴】

  • ウェハ付着有機物を高感度に測定可能です。
  • 成分別の高感度評価が可能です。
  • 検出された成分のライブラリ検索を実施します。

2.3 VPD-ICPMS法, VPD-TXRF法

概要

ウェハに付着した金属や成膜した膜中に含まれる金属不純物の定量分析が可能です。
Si酸化膜、Si窒化膜にも対応しております。

方法

HF蒸気によりウェハ表面の酸化膜を気相分解します。
残った金属不純物を酸の液滴で回収し、回収液をICP-MS分析、またはウェハ上で乾燥させTXRF分析をします。

VPD-ICPMS及びVPD-TXRF法

 【分析感度】※

VPD-ICPMS VPD-TXRF
Fe 0.5 0.02
Cu 0.2 0.02
Ni 0.1 0.01
Cr 0.1 0.01
Zn 0.5 0.02
Na 0.5 3
K 0.5 0.03
Ca 0.8 0.03
Al 0.5 3

E9atoms/cm2

 ※ φ300ウェハ評価の場合

【特徴】

  • 前処理から測定までの一連の作業をクリーンルームで実施しています。また超純水を使用しているため、E8オーダの高感度分析が可能です。
  • ICP-MSでは多元素同時測定が可能です。また、二重収束高分解能ICP-MSにより妨害成分を分離し測定することが可能です。
  • TXRFは、3種類の管球を使用し広範囲の元素分析が可能です。

お問い合わせ

TEL:029-270-1797
FAX:029-270-1540

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