ルネサス セミコンダクタ
マニュファクチュアリング(株)
(旧ルネサス那珂セミコンダクタ
分析センタ)


分析センタ

 

旧ルネサス那珂セミコンダクタ 分析センタの特徴

  • 半導体関連の分析に注力した分析機関です。
  • 最先端量産ラインで培った分析技術とノウハウでお客様をサポート致します。
  • 低コスト、短納期高品質に注力しております。

主要装置一覧
ルネサス セミコンダクタ マニュファクチュアリング㈱(旧ルネサス那珂セミコンダクタ 分析センタ)


化学分析の主要装置と主な用途

装置 形式(代表) 特徴と主な用途
イオンクロマトグラフ(IC) DX500
DX120
・雰囲気中の微量イオン性無機不純物測定
・純水又は水溶液中の微量イオン性無機不純物測定
・半導体材料等からの溶出イオン性無機不純物測定
・ウェハ表面付着微量イオン性無機不純物測定
ICP質量分析装置(ICP-MS) Agilent7500s
ElementⅡ
・雰囲気中の微量金属不純物測定
・純水、薬液中の微量金属不純物測定
・ウェハの微量金属不純物測定
・石英ガラス等、材料中の微量金属不純物測定
プラズマ発光分析装置(ICP-AES) SPS5510
フレームレス原子吸光光度計(GF-AAS) Z-5710
ガスクロマトグラフ質量分析装置(GC/MS) Agilent5973
Agilent5975C
・雰囲気中の微量有機不純物測定
・半導体材料等からの有機アウトガス成分測定
・ウェハ表面付着有機不純物測定
パージ&トラップガスクロマトグラフ G-7000
フーリエ変換顕微
赤外分光光度計(FT-IR)
NEXUS670 ・微小異物の定性分析
全反射蛍光X線分析装置(TXRF) TREX630
TREX632
・ウェハ表面の金属不純物分析

物理解析の装置と主な用途

装置 特徴と主な用途
走査型電子顕微鏡(SEM) ・試料最表面の微細形状観察
走査透過型電子顕微鏡(STEM) ・ナノレベルでの薄膜断面試料観察
エネルギー分散型X線分析装置(EDX) ・観察領域の元素分析及びマッピング
ウェハプロービングマシン&
モジュラソース・モニタユニット
・オープン・ショート欠陥、抵抗分布、欠陥密度、接合リークの測定

弊社では、クリーンルーム内に分析機器を設置し、様々な分析ニーズに対応致しております。

お問い合わせ

TEL:029-270-1797
FAX:029-270-1540

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